优化热设计,提升功率能力—第一部分:基本知识

摘要

随着电路功率密度持续提升,加之高环境温度等严苛工况的存在,热性能已成为单芯片电源产品日益关注的问题。本文深入探讨功率集成电路应用中的通用热学概念,并对影响整体热性能的各种因素进行量化热分析。

引言

单芯片功率集成电路的数据手册通常会规定两个电流限值:最大持续电流限值和峰值瞬态电流限值。其中,峰值瞬态电流受集成功率场效应晶体管(FET)的限制,而持续电流限值则受热性能影响。数据手册中给出的持续电流限值,是基于典型电压转换、室温条件和标准演示板工况得出的。在特定工作环境中,实施有效的热设计对于确保集成电路可靠承载所需电流至关重要。

本文分为两个部分:第1部分涵盖通用热学概念和芯片级热设计考量,第2部分则探讨影响功率集成电路应用中热性能的系统级(板载芯片)因素。本文旨在简明扼要地总结功率器件热设计中的关键注意事项。

热概念和参数

为清晰起见,表1列出了稳态电气参数与热参数的类比关系。

表1. 参数转换
电气领域 热领域
电压,V(单位:V) 温度,T(单位:K或°C)
电流,I(单位:A) 功耗,P(单位:W)
电阻,R(单位:Ω) 热阻,θ (单位:K/W或°C/W)
ΔVAB = VA – VB = I × RAB ΔTAB = TA – TB = P × θAB

从稳态角度来看,电气领域中电流从高电位流向低电位,倾向于选择电阻更低的路径。类似地,在热领域中,热能从高温区域向低温区域耗散,且通过热阻更低的路径会产生更大的能量耗散。

在功率集成电路应用中,通常将结(裸片)视为热源,表1中的 热方程可调整如下:

Equation 1.

其中:

  • TJ是集成电路结温。
  • TA 是环境温度。
  • PLOSS是集成电路功率损耗。
  • θJA 是结至环境热阻。

根据公式1,降低集成电路的功率损耗或热阻,均可帮助减小结至环境的温差(ΔTJA)并改善热性能。

散热模式

散热模式有三种:

  1. 热传导:通过直接接触散热。
  2. 热对流:通过周围流动的流体带走热量。
  3. 热辐射:以电磁波的形式散热。

如图1所示,在集成电路(IC)应用中,热传导通常指的是在IC封装 内部通过PCB铜箔进行散热。热对流通常发生在IC或PCB表面与周 围空气之间。热辐射无处不在,因为它不需要介质。

图1. IC应用中的散热。

计算不同散热方式的热阻:

热传导:

Equation 2.

其中,L是材料长度或热传导距离(m),k是材料的热导率[W/(m × K)], 而A是材料的横截面积(m2)。

热对流:

Equation 3.

其中,h是热传递系数[W/(K × m2 )], Acool是散热面积

热辐射:

Equation 4.

其中,ε是材料的热发射率,σ是斯特凡-玻尔兹曼常数,Asurf是 表面积(m2),Tsurf是表面温度(K),而Ta则是环境温度(K)。

从公式4可见,辐射模式下的热阻高度依赖于温度。随着温度升高,θradi降低,这使得在实际场景中针对性地降低θradi颇具难度。因此,后续章节将重点探讨热传导和热对流模式下的热阻。

简化热模型

如图2所示,现引入简化的热模型,以评估系统级(板载芯片) 的热性能。

图2. 简化的热模型。

此模型将 θJA分解为四个不同的参数:

  • θJTJCtop): 集成电路结至外壳热阻。
  • θJB: 集成电路结至板热阻。
  • θTA: 集成电路外壳顶部至环境热阻。
  • θBA: 板至环境热阻。

这些参数之间的关系如下:

Equation 5.

θ与ψ的区别

一些数据手册将θ和ψ值列为热参数,其中θ指实际热阻,ψ则表示热特性值。例如,考虑 θJT 和ψJT

Equation 6.

Equation 7.

主要区别在于,公式6假设热能仅通过集成电路外壳顶部耗散,而公式7假设热能通过所有可能的路径耗散。因此,在自然散热的实际应用中,使用 ψJT而非θJT来计算结温更为准确:

Equation 8.

需要注意的是,ψJT并非热阻,不具备物理意义;它仅仅从系统 角度表示 TJ与Tcasetop之间的数值关系。此外, ψJT无法用于构建热模型。类似的区别也适用于 θJB和ψJB

集成电路封装的影响

功率集成电路内部的散热主要通过传导方式进行,如公式2所述。表2列出了集成电路封装中常用材料的热导率值2,这些数据可用于评估不同封装结构的散热路径。需要注意的是,这些数值也会受到温度的影响。

表2. 集成电路中不同材料的热导率
材料 典型用途 热导率 (W/m × K)
铜(25°C至125°C) 引线框架、铜柱 401至393
线焊 314
硅(25°C至125°C) 裸片 148至100
SnPb 焊料 50
银环氧树脂 裸片贴装 2.09
环氧模塑化合物 集成电路封装 0.72

带底部裸露散热焊盘的焊线封装(ADI MSE)

图3展示了ADI MSE封装的标准结构,包含焊线和裸露底部焊盘。结合表2中的数据,引入表3以评估不同的散热路径。其中热阻最低的路径为“裸片-裸片贴装-底部裸露焊盘”结构。

图3. MSE封装的典型结构。
表3. MSE中的散热路径
热路径 距离L 横截面A 热导率K
线焊 非常高
芯片贴装 非常短
裸露焊盘 非常高
环氧模塑 化合物 非常低

晶圆级芯片规模封装(WLCSP)

图4展示了WLCSP的标准结构。相应地,表4提供了WLCSP的详细信息,其中强调热阻最低的最优散热路径为“芯片-铜重分布层(RDL)-焊球”结构。

图4.WLCSP的典型结构。
表4. WLCSP中的散热路径
热路径 距离L 横截面A 热导率K
铜RDL 非常高
焊球
裸片钝化 非常短
电介质 非常短 非常低

带底部裸露散热焊盘的倒装芯片封装 (ADI LQFN)

图5展示了ADI LQFN封装的标准结构。结合表5可知,热阻最低的散热路径是通过“芯片-铜柱-焊料”及底部裸露焊盘构成的。

图5. LQFN封装的典型结构
表5. LQFN中的散热路径
热路径 距离L 横截面A 热导率K
铜柱 非常高
焊料 非常短
裸露焊盘 非常高
环氧模塑化合物 非常长 非常低

基于封装特性的θ和ψ数值差异

如前文所述,热阻θ是在假设热量沿特定方向耗散的条件下计算得出的,而ψ值则是基于自然散热条件确定的。在封装结构中,顶部的环氧模塑化合物热导率相对较低,且散热路径较长。因此,仅有极少热能通过顶部耗散,导致Tcasetop接近TJ。根据公式6和7,ψJT显著小于θJT。相反,由于大部分热能通过IC外壳底部和PCB耗散,ψJB值通常与θJB接近。1

裸露芯片封装

与顶部覆盖环氧层的封装不同,裸露芯片封装的芯片厚度更大。图6展示了带有裸露芯片的LQFN封装的典型结构。

图6. 裸露芯片LQFN封装的典型结构。

顶部额外的硅层降低了热源至外壳顶部的热阻(θJT),从而增强了封装顶部的散热能力。然而,在自然散热条件下,由于其他系统级因素会影响整体热阻,裸露芯片封装并未显著提升热性能。裸露芯片封装的热优势将在第二部分中详细介绍。

数据手册上的热参数

功率集成电路数据手册通常会列出多个热参数以供参考,如图7所示。由于集成电路封装的特性,θJCBOTT小于θJTJCTOP),而 ψJT显著小于θJT (JCTOP)。在自然散热条件下,使用θJT 计算 TJ可能会导致显著误差。此外,需要注意θJCBOT与θJB不同,因为θJB表示的是结与板之间的热阻,而非结与IC外壳底部之间的热阻。3

图7. 数据手册上的热参数。

示例中同时列出了JEDEC和演示板的 θJA值。JEDEC板是根据JEDEC标 准51-7构建的,用于测量热参数。4通常,JEDEC板的布局未针对 散热进行优化,因此其JA值高于演示板。一般而言,JEDEC板上的θJA 反映了集成电路封装本身的热性能,而演示板上的θJA 则表示经过优化的系统设计值。

结语

在功率集成电路(IC)封装内部,热传导是主要的散热模式。根据封装内部材料的热特性,部分内部路径的热阻可能较低。然而,实际的散热路径还会受到系统级因素的影响,例如装配方式、印刷电路板(PCB)设计、风冷散热、散热片的使用等。有关 这些系统级因素的更多细节,将在第二部分中介绍。

参考文献

1 “JESD51-12: Guidelines for Reporting and Using Electronic Package Thermal Information”,JEDEC固态技术协会,2005年5月。

2 “Thermal Analysis of Semiconductor Systems”,NXP。

3 “JESD51-8: Integrated Circuit Thermal Test Method Environment Conditions – Junction-to-Board”,JEDEC固态技术协会,1999年10月。

4 “JESD51-7: High Effective Thermal Conductivity Test Board for Leaded Surface Mount Packages”,JEDEC固态技术协会,1999年2月。

作者

Adam Gu

Adam Gu是ADI公司工业和多市场部门的产品应用工程师,主要负责电源产品。他于2020年在德州农工大学(位于德克萨斯大学城)获得电气工程硕士学位,毕业后加入ADI公司开启职业生涯。

Hua (Walker) Bai

Hua (Walker) Bai

Hua (Walker) Bai 是 ADI 公司应用工程师,负责为多个应用领域的客户提供技术支持。任现职以前,他先后供职于 Jacobs Vehicle Systems 和 BEI Technologies。他 2001 年毕业于密苏里大学罗拉分校,获电气工程博士学位。