高電圧向け iCMOS™プロセス技術が±10Vの世界を大きく変革
アナログ・デバイセズのiCMOS™（industrial CMOS）製造プロセス技術は、高電圧シリコンにサブミクロンCMOS／コンプリメンタリーバイポーラ技術を組み合わせて利用するものです。これにより、今まで高電圧向けのデバイスでは達成できなかった、小さなフットプリントで30V動作を実現する広範囲の高性能アナログICを開発できるようにました。従来のCMOSプロセスを採用するアナログICとは異なり、iCMOSのICは高電源電圧に耐えることができ、性能の向上、消費電力の大幅低下、パッケージ・サイズの削減を実現します。
この新しい高電圧向けCMOSプロセス技術を採用した最初の製品群には、コンバータ、アンプ、スイッチ、マルチプレクサがあります。詳細は以下のテーブルをご覧ください。
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